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              • 10L等離子清洗機 500W/1000W是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激...
              • 本型號勻膠機采用全鋁合金腔體,外觀美觀堅固;腔體上蓋則采用360°可視的有機玻璃設計,便于客戶使用過...
              • 感應爐CY-IVΦ300-15KW-SS是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種...
              • 本產品是一款小型的1100℃布里奇曼晶體生長爐,配有2英寸的石英管,精密提拉機。布里奇曼晶體生長爐用...
              • 1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
              • 桌面型雙靶磁控濺射鍍...
                本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
                桌面型鋁合金腔體單靶...
                桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備,采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜
                矩形腔室磁控濺射鍍膜...
                矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜沉積的高精度設備
                D型腔體單靶直流磁控...
                直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
              • 高真空三源熱蒸發鍍膜...
                三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域:金屬和介電膜 ,薄膜傳感器的制造 ,光學元件 ,納米與微電子 ,太陽能電池等
                桌面型有機源蒸發鍍膜...
                熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
                桌面型不銹鋼腔體熱蒸...
                熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能,從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
                高真空雙源熱蒸發鍍膜...
                高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜
              • 澆筑坩堝升降式感應加...
                澆筑坩堝升降式感應加熱爐是一種利用電磁感應加熱的工業爐,主要用于金屬熔煉和鑄造。其核心特點是坩堝可升降,便于金屬熔煉后的澆筑操作
                非自耗型高真空電弧爐
                超高溫大容量非自耗型高真空電弧爐是我公司根據科研單位實驗要求精心研發設計的一款主要用于:熔煉難熔金屬及合金,可進行冶煉、提純、脫氧、除雜等。特別適合高校及科研院所進行新材料的真空冶煉或小批量制備
                2000℃15kw真...
                真空感應熔煉爐功能**、熔煉快速、使用方便、節能環保,非常適合實驗室進行小劑量的金屬樣品研究
                1800度1Kg真空...
                1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明:宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子工業所需要的合金和特殊鋼
              • 換位自轉等離子鍍膜儀
                本型號等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗,本設備配備換位自轉式樣品臺,用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位,樣品臺可在兩個靶位自由切換,本設備體積小巧造型美觀功能強大,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
                三靶等離子濺射鍍膜儀...
                本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設備配有旋轉加熱樣品臺,可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
                三靶等離子濺射鍍膜儀...
                本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
                三靶等離子濺射鍍膜儀...
                本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設備配有旋轉樣品臺,可以提升鍍膜的均勻性)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
              • 8英寸晶圓烤膠機
                8英寸晶圓烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
                12英寸聚四氟腔體防...
                本產品為旋涂儀也稱勻膠機,是利用高速旋轉產生的離心力來涂覆膜料的設備。本型號采用工業級大功率伺服電機,可實現更好的穩定性和均勻性
                擺臂勻膠機旋涂儀
                擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領域有著廣泛的應用
                全自動勻膠機旋涂儀
                旋涂儀是一種實驗室設備,主要用于制備薄膜材料,其應用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導體、氧化物、聚合物等材料的薄膜,制備納米材料、納米結構、納米薄膜等
              • 1000mm真空加熱...
                涂布機是一種廣泛應用于制造業中的機器設備,主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產
                間歇式鋰電池涂布機
                間歇式鋰電池涂布機本著方便研究者使用,同時滿足涂布精度和一致性無異于生產的要求設計,烘干效果優異,是鋰離子電池、超級電容、鎳電池以及其他二次電池研發的理想之選
                實驗室自動卷對卷涂布...
                實驗室自動卷對卷涂布機是近年來發展起來的一種新興的實驗室儀器。 是電氣控制與機械有機結合的一次成功**。 在涂料生產領域,可節省大量原材料,提高生產工藝; 關鍵是在實驗的基礎上,涂層的重現性大大提高。 專為高校、科研院所、企業實驗室的電池材料研發和材料檢測而設計制造
                鋰離子電池狹縫擠出型...
                狹縫擠出型涂布機,可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高,一致性穩定性好,廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業

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