產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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PECVD化學氣相沉積... PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低...
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PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優(yōu)點，以實現(xiàn)更高的...
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等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
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等離子體增強型化學氣相... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用...
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CVD化學氣相沉積系統(tǒng) CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應用于材料科學和工程領域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
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PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
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雙溫區(qū)CVD化學氣相沉... CVD（化學氣相沉積）氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術，通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應，形成薄膜
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三溫區(qū)PECVD石墨烯... 三溫區(qū)PECVD廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上
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熱陰極直流等離子體化學... 熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備（DCCVD）是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎上發(fā)展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
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卷對卷PECVD石墨烯... 卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發(fā)光設備和其他薄膜電子產(chǎn)...
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PECVD-R?旋轉等... 本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)...
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PE-HPCVD等離子... PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐，一套鎢絲蒸發(fā)源，一套等離子發(fā)生裝置以及一套質量流量計組成。...
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PECVD鍍膜儀 CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應...
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單溫區(qū)旋轉PECVD石... 單溫區(qū)旋轉PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中...
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等離子增強CVD系統(tǒng) 等離子增強CVD系統(tǒng)由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、單溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學反...
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等離子增強型CVD系統(tǒng) CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質子流量...
