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            產(chǎn)品詳情
            • 產(chǎn)品名稱:帶過渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀

            • 產(chǎn)品型號:CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS
            • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
            • 產(chǎn)品文檔:
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            簡單介紹:
            本設(shè)備為三靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
            詳情介紹:
              本設(shè)備為三靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
            設(shè)備配有三支磁控靶,兩套直流電源,可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時設(shè)備具有主腔室和過渡艙兩部分,過渡艙配有磁力推桿,兩個艙室之間裝有真空閘板閥;用戶可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時,在過渡艙裝填樣品,并進(jìn)行真空預(yù)抽,待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù),不僅能有效節(jié)省時間,更能保證更好的本地真空,有效提高鍍膜質(zhì)量

             三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

            項(xiàng)目

            明細(xì)

            產(chǎn)品型號

            CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS

            供電電源

            VAC 110, 60Hz

            樣品臺

            位置

            下部,帶擋板

            直徑尺寸

            φ150mm

            可調(diào)轉(zhuǎn)速

            0-20rpm 可調(diào)

            加熱溫度

            RT~500oC

            真空腔體

            腔體尺寸

            φ325xH510mm

            腔體材料

            304 不銹鋼

            內(nèi)壁處理

            電解拋光

            密封方式

            氟橡膠密封

            觀察窗口

            φ100mm(帶擋板)

            磁控靶槍 

            數(shù)量

            3

            擺頭角度

            可調(diào)角度 -45~45 度

            濺射方向

            向下濺射

            靶材平面

            圓形平面靶

            靶材直徑

            2英寸

            靶材厚度

            *厚3mm

            直流電源

            數(shù)量

            2

            電源功率

            0~500W

            輸出電壓

            0600V

            *大輸出電流

            1A

            啟動時間

            1~10S

            射頻電源

            數(shù)量

            1

            電源功率

            0~500W

            射頻頻率

            13.56MHz

            匹配方式

            自動匹配

            反射功率

            ≦100W

            功率穩(wěn)定性

            ±0.1%

            膜厚監(jiān)測儀

            通道數(shù)

            單通道

            測量精度

            0.1 ?

            測量速度

            100ms-1s/次,可設(shè)置測量范圍:500000?(鋁)

            標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體

            6MHz

            適用晶片尺寸

            Φ14mm

            真空系統(tǒng)

            前級泵

            雙極旋片泵,抽速1.1L/s

            渦輪分子泵

            抽速600L/s

            額定轉(zhuǎn)速:27000rpm

            啟動時間:≦5min

            冷卻方式:水冷

            真空度

            5x10-4Pa

            真空測量

            復(fù)合真空計(jì),測量范圍10-5Pa ~ 105 Pa

            過渡倉

            腔體尺寸要適用于*大4英寸的晶圓

            配備分子泵組:

            前級泵:VRD-4,抽速1.1L/s

            分子泵:日本TG60F,抽速60L/s

            水冷機(jī)

            冷卻水流速

            10L/min

            整機(jī)功率

            0.1KW

            冷卻功率

            50W/℃

            水箱容量

            9L

            氣體控制

            1路質(zhì)量流量計(jì):Ar氣,范圍0-200sccm

            控制系統(tǒng)

            CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)



            豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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