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            產品詳情
            • 產品名稱:膜厚控制儀

            • 產品型號:CY-FDC-S
            • 產品廠商:成越科儀
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            CY-FDC-S膜厚控制儀適用于電子束鍍膜、磁控濺射、電阻熱蒸發等各種鍍膜厚度控制場合。與蒸發源形成閉環控制,實時控制和顯示完整的鍍膜數據,包括功率、速率、厚度和所用時間,可鍍制復雜的光學和金屬多層薄膜,通過觸摸屏控制實現各種操作,較傳統的按鍵操作更為直觀易懂。儀器編程極為方便,總共可設置8個膜系,每個膜系100層鍍膜層,為您多層鍍膜帶來極大方便。這些功能為您獲取鍍膜工藝提供良好 基礎。 FDC-S膜厚控制儀有以下幾個特殊功能:手動控制;人工終止鍍膜、晶振失效時按當時功率鍍膜、晶振失效時切換晶片繼續(多晶片探頭)、中斷膜系、兩個源同時預熔、密碼保護等。
            詳情介紹:

            膜厚控制儀

            技術特點:

            1. 全觸屏操作,簡單易用;

            2.32個膜系,每膜系50/100層自動鍍膜;

            3. 12路信號輸入/12路開關量輸出;

            4. 提供全自動、半自動、手動控制模式;

            5.可控制2個源,一套工作另一套預溶;

            技術參數:

            CY-FDC-S控制儀

            晶振頻率

            6MHz(可選2.5M 3M 5M 9M晶體)

            顯示方式

            5”彩色觸屏+數碼管顯示速率和實厚

            操作方式

             觸摸屏

               

            00μ0000?-99μ9999?

            厚度顯示分辨率

            1?/s

            速率顯示分辨率

            0.1?/s

            鍍膜層數

            32膜系,每膜系50/100層;

            探頭數量

            A  B

            工具因子

            0.01-99.99

            時間顯示   

            00:00:00-23:59:59 H:M:S

            功率顯示

            099.9%

            預熔功率

             099%

            預鍍功率

            099.9%

            預熔時間/預鍍時間

            099:99  m:s

            預熔保溫時間

            /預鍍保溫時間

              099:99  m:s

            鍍膜速率(設定速率)

              0999.9?/s

            材料存儲

            257+自定義10

             

            RS232/RS485

            可控蒸發源

            2個,可一套工作另一套預溶

            輸出控制

            ±10V/5V/2.5V

            I/接口

            12路信號輸入/12路開關量輸出

            可控坩堝數量

            1-16

            鍍膜顯示

            速率曲線/數值

            鍍膜巡回次數

            每膜系50/100層自動

            機箱尺寸

                                  480×280×89mm(2U 19”機箱)


            特殊功能:

            1、手動、半自動、自動3種鍍膜模式,滿足多種鍍膜機配置;

            2、人工停止鍍膜:鍍膜過程中人工終止鍍膜;

            3、手動控制:確定初次鍍膜工藝要求;

            4、中斷膜系:自動和半自動鍍膜中發現問題或出現故障,能停止鍍膜并能自動保存當前狀態,待故障**后,可從中斷膜系繼續鍍膜;

            5、自動或半自動鍍膜時,如晶振失效,可選擇按終止鍍膜、按當前功率時間鍍膜、切換晶片繼續(多晶片探頭);

            6、兩個源同時預熔:當前層鍍膜開始過程中,可選擇同時對第2層進行預熔,以滿足對時間要求緊張的場合;

            7、密碼保護:膜系和膜層參數密碼保護功能,保護工藝參數不被非工藝人員修改;

            8、鍍膜數據記錄:自動或半自動鍍膜時,系統可記錄每層膜的成膜時間、*終厚度速率參數。


            豫公網安備 41019702002438號

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