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            產(chǎn)品詳情
            • 產(chǎn)品名稱:等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備

            • 產(chǎn)品型號:CY-PECVD-240T-SS
            • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
            • 產(chǎn)品文檔:
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            簡單介紹:
            化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率快,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜
            詳情介紹:
            化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),基本溫度低,沉積速率快,在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
            主要功能及特點:
            PECVD設(shè)備利用平板電容式輝光放電原理,將通入沉積室的工藝氣體解離并產(chǎn)生等離子體,被解離的基團(tuán)在等離子體中重新發(fā)生化學(xué)反應(yīng),由于等離子體存在,促進(jìn)氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離,促進(jìn)反應(yīng)活性基團(tuán)的生成,從而降低沉積溫度,在具有一定溫度的基片上沉積形成薄膜。可根據(jù)工藝調(diào)節(jié)等離子體的密度和能量,控制薄膜的生長速率和微結(jié)構(gòu)。
            產(chǎn)品參數(shù):


            PECVD



            產(chǎn)品名稱

            桌面式4英寸平板等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD

            產(chǎn)品型號

            CY-PECVD-240T-SS

            供電電源

            AC220V 50Hz

            射頻電源

            信號頻率

            13.56MHz

            功率輸出范圍

            0~500W (還可選擇150W, 300W, 1000W)

            工作腔體

            加熱溫度

            RT-500℃(還可選擇600℃,800℃,1000℃等)

            樣品臺尺寸

            Φ100mm(兼容4英寸及以下樣品)

            樣品臺轉(zhuǎn)速

            1-20rpm 可調(diào)

            腔體材質(zhì)

            不銹鋼

            觀察窗

            Φ60mm, 帶擋板

            供氣系統(tǒng)

            通道數(shù)

            3 (可根據(jù)需要選擇其他通道數(shù),其他氣體種類,其他測量范圍)

            測量單位

            質(zhì)量流量計

            測量范圍

            A 通道: 0200SCCM for O2  

            B通道: 0200SCCM for N2

            C通道: 0200SCCM for Ar

            真空系統(tǒng)

            前級泵抽速

            1.1L/s

            分子泵抽速

            60L/s

            真空測量

            復(fù)合真空計

            真空度

            5.0*10-3Pa

            水冷機(jī)

            水流速

            10L/min

            冷卻功率

            50W/



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