磁控濺射靶材的分類及應(yīng)用

當(dāng)你在智能手機(jī)或平板電腦，用手指輕輕一劃，就會(huì)出現(xiàn)各種頁面，這就是屏幕上一種透明導(dǎo)電薄膜的功勞。用于生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜的磁控濺射靶材是眾多濺射靶材中發(fā)展*為迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材，目前廣泛應(yīng)用于平板顯示、節(jié)能低輻射玻璃、LED、半導(dǎo)體元器件等行業(yè)。

1、磁控濺射靶材的分類

根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材、合金靶材、無機(jī)非金屬靶材等。其中無機(jī)非金屬靶材又可分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材。

根據(jù)幾何形狀的不同，靶材可分為長(zhǎng)（正）方體形靶材、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材；此外，靶材還可以分為實(shí)心和空心兩種類型靶材。

目前靶材*常用的分類方法是根據(jù)靶材應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行劃分，主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)應(yīng)用靶材、顯示薄膜應(yīng)用靶材、光學(xué)靶材、超導(dǎo)靶材等。

其中半導(dǎo)體領(lǐng)域用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場(chǎng)需求規(guī)模*大的三類靶材。

2、磁控濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域

磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息儲(chǔ)存、液晶存儲(chǔ)、液晶顯示器、電子控制器件等，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、化學(xué)電鍍、金屬泡沫材料、上等裝飾用品等行業(yè)。

2.1信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)

在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤、磁頭、光盤（CD-R，CD，DVD）、磁光相變光盤（MO，C-RW,DVD-KAM）。

2.2集成電路產(chǎn)業(yè)

集成電路用靶材在全球靶材市場(chǎng)中占較大份額。其濺射產(chǎn)品主要包括電極互相連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。

2.3平面顯示器產(chǎn)業(yè)

平面顯示器包括：液晶顯示器（LCD）、等離子體顯示器（PDP）、場(chǎng)致發(fā)光顯示器（E-L）、場(chǎng)發(fā)射顯示器（PED）。目前，在平面顯示器市場(chǎng)中以液晶顯示器LCD市場(chǎng)*大,份額高達(dá)80%。

2.4光學(xué)薄膜行業(yè)

玻璃鍍膜采用的靶材主要有：In2O3、SnO2、Co-Cr、Cu、Cr、Ni、Sn等。汽車后鏡用靶材主要有：Cr、Al、SnO2、TiO2等。

3、磁控濺射靶材的制備方法

磁控濺射靶材的制備技術(shù)方法按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類，在靶材的制備過程中，除嚴(yán)格控制材料的純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外，對(duì)熱處理工藝條件、后續(xù)成型加工過程亦需要加以嚴(yán)格的控制，以保證靶材的質(zhì)量。

3.1熔融鑄造法

與粉末冶金法相比，熔融鑄造法生產(chǎn)的靶材產(chǎn)品雜質(zhì)含量低，致密度高。

3.2粉末冶金法

通常，熔融鑄造法無法實(shí)現(xiàn)難熔金屬濺射靶材的制備，對(duì)于熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上的金屬，采用普通的熔融鑄造法，一般也難以獲得成分均勻的合金靶材；

對(duì)于無機(jī)非金屬靶材、復(fù)合靶材，熔融鑄造法更是無能為力，而粉末冶金法是解決制備上述靶材技術(shù)難題的*佳途徑。同時(shí)，粉末冶金工藝還具有容易獲得均勻細(xì)晶結(jié)構(gòu)、節(jié)約原材料、生產(chǎn)效率高等優(yōu)點(diǎn)。